关于国产EUV光刻机荷兰工程师说了实话

因为除了光刻机,还需要芯片制造技术过硬,因此台积电才能做到领先。近年来,我们的制造技术不断进步,EUV光刻机却被限制了,为此我们只能去突破国产EUV。

关于国产DUV、EUV光刻机,网上的谈论很多,不少人认为光刻机非常复杂,我们投入不少,很难做出来。那么,到底目前进展如何?我们何时能够真正实现突破呢?

光刻机确实技术非常先进,尤其是EUV,包含约10个零部件,每台的造价超过1.5亿美元,集成了全球多项高精尖技术。ASML曾表示,即使给图纸我们也做不出来。

事实真是如此吗,我们真的做不出来EUV吗?业内的专家项立刚对此有不同看法。

项立刚是我国通信业知名观察家、智能互联网研究专家,日常跟芯片行业人士接触较多,在网上谈论芯片相关也不少。他表示,只有真正干实业的,才了解具体情况。

项立刚认为,网上传的光刻机多么复杂、单靠我们根本搞不出来,都是外企放出的消息,就是为了误导我们。并且我们决心去突破国产光刻机,也就是近几年才开始。

只要我们下定决定了,他的判断是3年做出样机、5年规模量产,先DUV后EUV。

近日,项立刚再谈光刻机,相信近几年大家会突然发现光刻机搞出来了,并且还大量商用了。之前是投入不多,20年投入才不到50亿,上海微电子也不超过20亿。

现在开始重视了,有市场、有投入、有人才,相信已经做出来了,正在跑稳定性。

项立刚说法非常令人振奋人心,但很多人估计还是不太相信。那么,接下来看下荷兰工程师的看法吧。近日,荷兰工程师在网上谈了EUV光刻机,重点提到了中国。

这位荷兰工程师,在半导体行业工作多年,曾在中国生活和工作了3年。他认识很多来自ASML的工程师,对EUV光刻机也了解很多,因此他的说法还是比较可信的。

他说EUV光刻机算是目前最复杂的工具,但它依然是由人类设计和制造的,其物理定律在全球都是相同的。既然荷兰企业能够做出来,那么其他国家当然也是可以的。

ASML总裁之前也提到过,物理定律在中国和荷兰是一样的,他们的意思基本一致。

除了上边的物理定律是一样的,这位荷兰工程师还重点提到,中国如今已经有雄厚的经济实力,目前中国经济是荷兰的17倍,这样的基础完全有实力发展光刻机。

因为中国工具制造商完全可以用ASML等无法与之竞争的高薪去雇用顶尖的人才。

荷兰工程师还表示,中国本身就是一个科技强国,研发支出排名全球第二,近年来专利申请最多,尤其是科技方面的人才也最多。光刻机荷兰可以,中国当然更可以。

物理定律一样,中国又有实力,只要有足够的时间,中国肯定也能做出EUV光刻机。

如今,半导体技术已经接近成熟,发展速度也开始放缓,中国更有时间、有机会迎头赶上。荷兰工程师还透露,其实中国已经成功做到了,并且还取得了良好的效果。

荷兰工程师表示,中国已经有了一台工作中的EUV光刻机原型,在芯片测试、封装、生产等方面赶上了其他公司,同时它的第一台浸没式光刻机也准备投入商业使用。

对于其他地区的光刻机进展,恐怕没有比ASML更加了解的了。这位荷兰工程师因为是业内人士,并且经常接触ASML的工程师,所以他的说法应该不会是空穴来风。

荷兰工程师跟项立刚的说法基本差不多,相信我们在高端光刻机上会尽快突破的!

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